意力博通系列離子濺射
依據二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調整控制器、微型真空氣閥在工作時結合內部自動控制電路控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。
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     儀器名稱:全自動離子濺射儀    型號:ETD-800

     原理:二極直流濺射

 

 

     儀器名稱:離子濺射儀 型號:ETD-900M

     原理:磁控濺射

     在磁控濺射中,由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產

     生螺旋運動,其運動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數,使等離子體密度增 加,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時,經過多次碰撞而喪失能 量的電子到達陽極時,已變成低能電子,從而不會使基片過熱。

產品參數

     ETD-800參數:

     主機規格:260mm×307mm×260mm(W×D×H)

     電源規格:220V/50HZ

     靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)

     靶材:Au

     真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm(D×H)

     定時器: zui 長時間:3600S

     機械泵: 1L/S

     zui 高電壓:-1200  DCV

 

     ETD-900M參數:

     主機規格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)

     靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)

     靶材:Au(標配)

     樣品室:硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H)

     靶材尺寸:Ф 50mm

     真空指示表: zui 高真空度:≤ 4X10-2 mbar

     離子電流表: zui 大電流:50mA

     定時器:zui 長時間:0-360S ?

     微型真空氣閥:可連接φ 3mm 軟管

     可通入氣體: 多種

     zui 高電壓: -1600 DCV ?

     機械泵:標準配置 2L/S(國產 VRD-8)

 

特點與用途:


     ETD-800用途:

     適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備。

     特點:

     可以通過更換不同的靶材(金、鉑、銀等),以達到細顆粒的涂層。

     一鍵式操作,使用方便。


     ETD-900M用途:

     適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實驗電極制作。


     特點:

     1、簡單、經濟、可靠、外觀精美。

     2、可調節濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

     3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的 損 傷。

     4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。

     5、同時可以通過更換不同的靶材(金、鉑、銥、銀、銅等),以達到更細顆粒的涂層。

     6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。

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