Gatan氬離子拋光系統Ilion II 697
氬離子拋光系統是一個用于樣品的截面制備及平面拋光的桌面型制樣設備,以便樣品在SEM及其它設備上進行檢測分析??衫肐lionII進行拋光加工的材料種類十分廣泛,包括由多元素組成的試樣,以及具有不同的機械硬度、尺寸和物理特性的合金、半導體材料、聚合物和礦物等。
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     產品功能介紹:

     氬離子拋光系統是一個用于樣品的截面制備及平面拋光的桌面型制樣設備,以便樣品在SEM及其它設備上進行檢測分析??衫肐lionII進行拋光加工的材料種類十分廣泛,包括由多元素組成的試樣,以及具有不同的機械硬度、尺寸和物理特性的合金、半導體材料、聚合物和礦物等。如焊縫截面,集成電路焊點,多層薄膜截面,顆粒、纖維斷面,復合材料、陶瓷、金屬及合金、巖石礦物及其他無機非金屬等各種材料的SEM、EBSD樣品。

 

產品參數

     產品主要技術參數:

     1.離子槍:       兩個配有稀土磁鐵的三元構造(陰極、陽極與 聚 焦極)潘寧離子槍,聚 焦 離子束設計,高性能無耗材

     2.拋光角度:       +10° 到 -10° ,每個離子槍可獨立調節

     3.離子束 能 量:       100 V 到 8.0 kV

     4.離子束流密度:    10 mA/cm2 峰值

     5.拋光速度:       300 μm/h(8.0 kV條件下對于硅試樣)

     6.樣品裝載:    Ilion樣品擋板, 裝樣簡單,再次拋光位置準確,可重復使用,配合Sample Stub可直接轉至SEM中觀察

     7.樣品旋轉:    0.5到6 rpm連續可調

     8.束流調制: 離子束調制功能,可進行扇形截面拋光(扇形角度為10到90度可調)和平面拋光

     9.樣品觀察:    數碼變焦顯微鏡,配有PC及Digital Micrograph軟件采集圖像,通過Gatan Digital Micrograph軟件可進行實時成像(300x–2,200x)與圖像存儲和分析

     10.液氮冷臺:配置液氮冷臺,樣品zui低溫度可達-120°C,有效減少離子束對樣品造成的 損 傷

     真空系統:

     11.干泵系統:兩級隔膜泵支持80升/秒的渦輪分子泵

     12.壓力:    5x10-6 托基本壓力,8.5x10-5托工作壓力

     13.真空規:    冷陰極型,用于主樣品室;固體型,用于前級機械泵

     14.樣品空氣鎖:  Whisperlok設計,樣品更換時間<1min,無需破樣品室真空

     用戶界面:

     15.10 英寸觸摸屏:    操作簡單,且能夠完全程序化控制所有參數可進行 配 方操作。

     16.操作模式:自定義不同的加工參數組合,實現一鍵操作。

 

     產品主要應用領域:

     EBSD樣品制備

     截面樣品制備

     金屬材料(合金,鍍層)

     石油地質巖石礦物

     光電材料

     化工高分子材料

     新能源電池材料

     電子半導體器件

 

PCB電路版截面拋光SEM圖

 

鍍鋅鋼板截面拋光

 

Zn晶粒

 

Fe晶粒

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